对于优良侧面效果的制造方式﹐外界均有不同的理论、 设计方式和设备结构的研究， 而这些理论却往往是人相径庭的。 但是， 有一条Zui基本的原则已被公认并经化学机理分析 证实﹐就是尽速让金属表面不断地接触新鲜的蚀刻液。 在氨性蚀刻中﹐假定所有参数不变 ﹐那么蚀刻的速率将主要由蚀刻液中的氨（NH3）来决定。因此，重庆蚀刻， 使用新鲜溶液与蚀刻表面 相互作用﹐其主要目的有两个﹕冲掉刚产生的铜离子及不断为进行反应供应所需要的氨 （NH3）。

蚀刻方法有哪几种?

答：①手工蚀刻

包括刷蚀、撩泼、摇床等。刷蚀是用排笔将溶液在金属板上来回刷蚀。撩泼是用水勺子将溶液不断地泼向金属板表面，进行蚀刻。摇床是做一个下面有弧度的塑料槽，放入蚀刻液，放入金属板，手工压动槽的一边，使金属板上的蚀刻液来回流动。

②用泼溅式蚀刻机蚀刻

用水车式叶轮，将蚀刻液不断泼向金属板，进行蚀刻。

③用搅拌式蚀刻机蚀刻

在一个大瓷缸的中间装一个带叶片的立轴，做成一个搅拌机，蚀刻标牌，将蚀刻液不断搅动，金属板放在缸边，进行蚀刻。

④用喷淋式蚀刻机蚀刻

用数个喷水头从上向下喷淋蚀刻液，金属板放在下边的传送带上向前走，控制好速度，走出后即蚀刻完毕。

⑤用电解蚀刻机蚀刻

把要蚀刻的金属板接在电源的正极，放平后将喷淋器接在电源的负极，喷出的盐水为导电液，金属发热丝蚀刻，进行电解，达到蚀刻的目的。

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化学蚀刻（Chemical etching）-- 气态物质（中性原子团）与表面反应， 产物必定易挥发，也称为等离子蚀刻。 等离子增强蚀刻(Ion-enhanced etching)—单独使用中性原子团不能形成易挥发产物，具有一定 能量的离子改变衬底或产物；具有一定能量的离子改变衬底或产物层，这样，化学反应以后 能生成挥发性物质，亦称为反应离子蚀刻（RIE） 。 溅射蚀刻（Sputter etching）--具有一定能量的离子机械的溅射衬底材料。 蚀刻速率（Etch rate）--材料的剥离速率，通常以?/min，不锈钢网蚀刻，?/sec，nm/min， um/min 为单位计 量。 各向同性蚀刻（ Isotropic etch）-- 蚀刻速率在所有方向都是相同的。
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